深圳無(wú)塵車(chē)間相對(duì)濕度控制不好，就有可能使?jié)崈羰铱傮w表現(xiàn)下降，而且還會(huì)帶來(lái)一系列的影響。

1、細(xì)菌生長(zhǎng)。細(xì)菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨蟲(chóng))在相對(duì)濕度超過(guò)60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對(duì)濕度超過(guò)30%時(shí)就可以增長(zhǎng)。而相對(duì)濕度處于40%至60%的范圍之間時(shí)，可以使細(xì)菌的影響以及呼吸道感染降至最低。所以潔凈室相對(duì)濕度要控制在一定范圍。

2、潔凈室工作人員感到室溫舒適的范圍。對(duì)濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類(lèi)感覺(jué)舒適的適度范圍。如果潔凈室濕度過(guò)高會(huì)使人覺(jué)得氣悶，而濕度低于30%則會(huì)讓人感覺(jué)干燥，皮膚皸裂，呼吸道不適以及情感上的不快，從而影響工作。

3、潔凈室相對(duì)濕度控制不好，出現(xiàn)靜電荷。當(dāng)相對(duì)濕度超過(guò)50%時(shí)，靜電荷開(kāi)始迅速消散，但是當(dāng)相對(duì)濕度小于30%時(shí)，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長(zhǎng)一段時(shí)間。潔凈室相對(duì)濕度在35%到40%之間可以作為一個(gè)令人滿意的折中，半導(dǎo)體潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。

4、相對(duì)濕度控制不好，容易造成潔凈室里的金屬腐蝕。很多化學(xué)反應(yīng)的速度，包括腐蝕過(guò)程，將隨著相對(duì)濕度的增高而加快。所有暴露在潔凈室周?chē)諝庵械谋砻娑己芸斓乇桓采w上至少一層單分子層的水。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時(shí)，高濕度可以使反應(yīng)加速。一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護(hù)型的氧化物，并阻止進(jìn)一步的氧化反應(yīng);另一種金屬，例如氧化銅，是不具有保護(hù)能力的。在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。

5、水汽冷凝。在相對(duì)濕度較高的潔凈室環(huán)境中，濃縮水形的毛細(xì)管力在顆粒和表面之間形成了連接鍵，可以增加顆粒與硅質(zhì)表面的黏附力。這種效應(yīng)稱(chēng)為凱爾文濃縮，就是當(dāng)相對(duì)濕度小于50%時(shí)并不重要，但當(dāng)相對(duì)濕度在70%左右時(shí)，就成為顆粒之間黏附的主要力量。

6、潔凈室光刻的退化。在半導(dǎo)體潔凈室中最迫切需要適度控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對(duì)相對(duì)濕度極為敏感的特性，它對(duì)相對(duì)濕度的控制范圍的要求是最嚴(yán)格的。相對(duì)濕度和溫度對(duì)于光刻膠穩(wěn)定性以及精確的尺寸控制都是很關(guān)鍵的。甚至是在恒溫條件下，光刻膠的粘性將隨著相對(duì)濕度的上升而迅速下降。當(dāng)然，改變粘性，就會(huì)改變由固定組分涂層形成的保護(hù)膜的厚度。

此外，在高的相對(duì)濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對(duì)濕度的負(fù)面影響;較低的相對(duì)濕度(約30%)使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑，如六甲基二硅氮烷(HMDS)。

7、吸水性。相對(duì)濕度控制不好，對(duì)潔凈室吸水性產(chǎn)出一定的影響。